Разработки НИУ ИТМО улучшат разрешение фотолитографии

Дата публикации: 19.12.2013

Техника фотолитографии используется для создания рельефного рисунка микроэлектронных схем на поверхности полупроводниковых пластин. Это достигается с помощью химической реакции в светочувствительном веществе – фоторезисте.


Notice: Undefined variable: news_text in E:\host1\niu\module\arc_news.php on line 49

Notice: Undefined variable: array_foto in E:\host1\niu\module\arc_news.php on line 59